El plasma es el cuarto estado de la materia y está presente en el 99% del universo visible. Sabemos que está compuesto por iones, electrones y partículas neutras que exhiben comportamiento colectivo. A pesar de tener partículas cargadas, son eléctricamente neutros y sensibles a campos eléctricos y magnéticos externos. Debido a que los plasmas corresponden principalmente a electrones e iones (átomos que han perdido electrones), sus temperaturas características son muy altas –superiores a los 10.000º C– y es necesario entregarles energía para evitar la recombinación que finalmente termina en gases neutros.
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El laboratorio de Plasmas UC fue creado gracias al trabajo del profesor Hernán Chuaqui, uno de los principales impulsores del desarrollo de la Física Experimental en Chile y quien lideró este grupo de investigación hasta su fallecimiento. Este fue el primer laboratorio de su tipo en el país y desde su formación ha mantenido una labor científica y formativa sin cesar.
En los laboratorios del Instituto de Física UC, los plasmas se forman mediante descargas eléctricas pulsadas de alta corriente, láseres de alta potencia o campos eléctricos externos de radiofrecuencias. Para eso, contamos con un nutrido equipamiento tanto en generadores de plasmas como en diagnósticos para los mismos, que en su gran mayoría han sido diseñados y construidos en este mismo laboratorio. Así podemos realizar una amplia gama de experimentos, donde no solo se estudia la ciencia básica tras el comportamiento de la materia bajo estas condiciones extremas de densidad y temperatura, sino también posibles aplicaciones. Algunas investigaciones aplicadas en curso son el tratamiento de superficies con recubrimientos de carbono –que puede ser utilizado para mejorar la durabilidad de brocas o adaptación de implantes en prótesis– o el estudio de emisión de rayos X de baja energía para posibles aplicaciones en la industria electrónica o imagenología médica, entre otras.
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