Física de Plasmas
Laboratorio de Radiofrecuencia
Física de Plasmas
Laboratorio de Radiofrecuencia
Reactor RF acoplado capacitivamente
La configuración está constituida principalmente por un reactor RF acoplado capacitivamente, en donde la cámara de vacío está hecha de acero inoxidable con una altura de 35.7 cm y un diámetro interno de 40 cm, la cámara cuenta con 2 entradas para el paso del gas, en donde el flujo de gas es controlado con 2 medidores de flujo. También en la parte superior de la cámara se cuenta con
medidores de presión tipo penning y tipo pirani. Para lograr el vacío en el interior de la cámara se cuenta con 2 bombas de vacío, la bomba rotatoria y una bomba turbomolecular. La parte lateral de la cámara cuenta con una serie ventanas ocupadas para múltiples propósitos, particularmente para realizar diagnósticos eléctricos e ópticos. Se utilizan dos generadores de RF (13.56 MHz y 2,26 MHz) para producir el plasma en diferentes condiciones experimentales. Las películas delgadas se depositan en el reactor RF combinándose con un láser de alta potencia para formar un sistema convencional de deposición por láser pulsado (PLD) con un plasma de radiofrecuencia (RF) dual, sistema conocido como PLD mejorado por plasma (PE-PLD).
Electrodo de potencia
Para medir corriente y voltaje del electrodo de potencia se utiliza sonda de corriente y voltaje conectada a un osciloscopio Tektronix DPO7354C de alta frecuencia.
Perfilómetro 3D
Para las caracterizaciones de las películas delgadas depositadas en el reactor RF junto con PLD se utiliza un perfilómetro 3D para estudiar el grosor de las películas.
Reactor RF acoplado capacitivamente
La configuración está constituida principalmente por un reactor RF acoplado capacitivamente, en donde la cámara de vacío está hecha de acero inoxidable con una altura de 35.7 cm y un diámetro interno de 40 cm, la cámara cuenta con 2 entradas para el paso del gas, en donde el flujo de gas es controlado con 2 medidores de flujo. También en la parte superior de la cámara se cuenta con
medidores de presión tipo penning y tipo pirani. Para lograr el vacío en el interior de la cámara se cuenta con 2 bombas de vacío, la bomba rotatoria y una bomba turbomolecular. La parte lateral de la cámara cuenta con una serie ventanas ocupadas para múltiples propósitos, particularmente para realizar diagnósticos eléctricos e ópticos. Se utilizan dos generadores de RF (13.56 MHz y 2,26 MHz) para producir el plasma en diferentes condiciones experimentales. Las películas delgadas se depositan en el reactor RF combinándose con un láser de alta potencia para formar un sistema convencional de deposición por láser pulsado (PLD) con un plasma de radiofrecuencia (RF) dual, sistema conocido como PLD mejorado por plasma (PE-PLD).
Electrodo de potencia
Para medir corriente y voltaje del electrodo de potencia se utiliza sonda de corriente y voltaje conectada a un osciloscopio Tektronix DPO7354C de alta frecuencia.
Perfilómetro 3D
Para las caracterizaciones de las películas delgadas depositadas en el reactor RF junto con PLD se utiliza un perfilómetro 3D para estudiar el grosor de las películas.
Bienvenido al Laboratorio de Radiofrecuencia. Dirigido por el profesor Heman Bhuyan. En este laboratorio realizamos investigación experimental en el área de Física de Plasmas.
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