6e01282195

Física de Materia Condensada Experimental

Sala Limpia

  1. Inicio keyboard_arrow_right
  2. Investigación keyboard_arrow_right
  3. Áreas de Investigación keyboard_arrow_right
  4. Física de Materia Condensada Experimental keyboard_arrow_right
  5. Sala Limpia

Física de Materia Condensada Experimental

Sala Limpia

close
2-eng

Equipo para grabado reactivo iónico (RIE)

Usuario utilizando el equipo para grabado reactivo iónico (RIE) , el cual finaliza el proceso de grabado de estructuras con resolución micrométrica mediante el bombardeo con iones (FONDEQUIP EQM190136).

close
4

Microscopio óptico

Usuario utilizando un microscopio óptico para verificación de la  litografía una oblea de silicio.
close
5

Oblea de silicio

Usuario finaliza el tratamiento de recubrimiento con barniz fotorresistente de una oblea de silicio para la posterior garbado de patrones en el alineador de máscaras.

close
3

Tratamiento de recubrimiento con barniz fotorresistente

Usuario finaliza el tratamiento de recubrimiento con barniz fotorresistente de una oblea de silicio para la posterior garbado de patrones en el alineador de máscaras.

close
7

Cámara para litografía óptica

Cámara para litografía óptica: en este recinto tiene la pureza del aire es aún mejor que el resto de la sala limpia, ya que está pensado para realizar litografía óptica de alta resolución.

close
6

Equipo de pulverización catódica

Equipo de pulverización catódica para fabricación de películas delgadas de espesores nanométricos (FONDEQUIP EQM210105).


2-eng

Equipo para grabado reactivo iónico (RIE)

Usuario utilizando el equipo para grabado reactivo iónico (RIE) , el cual finaliza el proceso de grabado de estructuras con resolución micrométrica mediante el bombardeo con iones (FONDEQUIP EQM190136).

4

Microscopio óptico

Usuario utilizando un microscopio óptico para verificación de la  litografía una oblea de silicio.
5

Oblea de silicio

Usuario finaliza el tratamiento de recubrimiento con barniz fotorresistente de una oblea de silicio para la posterior garbado de patrones en el alineador de máscaras.

3

Tratamiento de recubrimiento con barniz fotorresistente

Usuario finaliza el tratamiento de recubrimiento con barniz fotorresistente de una oblea de silicio para la posterior garbado de patrones en el alineador de máscaras.

7

Cámara para litografía óptica

Cámara para litografía óptica: en este recinto tiene la pureza del aire es aún mejor que el resto de la sala limpia, ya que está pensado para realizar litografía óptica de alta resolución.

6

Equipo de pulverización catódica

Equipo de pulverización catódica para fabricación de películas delgadas de espesores nanométricos (FONDEQUIP EQM210105).

Bienvenido a la Sala Limpia del Instituto de Física. Te invitamos a hacer click en cada uno de los puntos marcados para que conozcas más sobre nuestras técnicas y equipamiento.